科研3D打印機(jī)是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。

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更新時(shí)間：2024-09-18

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科研3D打印機(jī) 微尺度3D打印設(shè)備光敏樹脂3D打印光固化3D打印

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品牌	摩方精密	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥
光學(xué)精度	10μm	打印材料	光敏樹脂
打印層厚	10-40μm	最大打印尺寸	19.2mm(L)×10。8mm(W)×45mm(H)
光源	UV?LED(405nm)

一、科研3D打印機(jī)介紹

nanoArch P140是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

微納制造精密必現(xiàn)

nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL：Projection Micro Stereolithography）

二、科研3D打印機(jī)nanoArch P140 系統(tǒng)簡(jiǎn)介

nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。